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11月11日，半导体板块再掀涨停潮，光刻机（胶）、AI芯片、中芯概念、存储芯片、先进封装、EDA等多个详尽区分范畴纷繁大涨。
音讯面上，11月8日信息，美众议院中美战略竞赛特别委员会主席向全球头部半导体设备公司ASML、AMAT、LAM、KLA、TEL质询对我国大陆出售状况。金融时报11月8日音讯显现，台积电11月11日起开端中止给我国大陆供给7nm及更先进节点的AI芯片。
光刻产业链（光刻机、光刻胶）作为我国半导体范畴最为单薄的环节之一，国产代替的迫切性强，因而，在近年来的半导体行情中常常扮演着领头羊的人物！下文，笔者就为我们整理光刻产业链及其相关公司。
中航证券剖析指出，光刻是芯片制作的中心工艺，占芯片制作1/2的时刻+1/3的本钱，光刻机被誉为“半导体工业皇冠上的明珠”，一起也是国内最“卡脖子”的环节。
光刻工艺是指集成电路制作中运用光学-化学反应原理和化学、物理刻蚀办法，将电路图形传递到单晶外表或介质层上，构成有用图形窗口或功用图形的工艺技能。光刻技能指在光照效果下，凭借光致抗蚀剂(即:光刻胶)将掩膜版上的图形转移到基片上的技能。
典型的光刻工艺流程包括：衬备、涂胶、前烘、曝光、显影、坚膜、腐蚀、去胶等。在光刻中首要运用东西及资料为光掩膜、光刻机及光刻胶。
光刻机依据光源不同（对应波长不同）可分红：紫外（UV）光刻机、深紫外（DUV）光刻机、极紫外（EUV）光刻机三类，对应不同纳米制程节点款芯片的制作需求。EUV是现在最先进的光刻设备，全体结构与DUV相似，它对各子体系的精密度要求极高，现在EUV商场被ASML公司独占。
光刻机首要由光源体系、曝光体系（分为照明模组和投影物镜模组）、双工件台体系构成。光源体系和曝光体系合称为光学体系，是光刻机最中心的部分，直接决议光刻机的工艺性能。
现在，上海微电子是推进光刻整机国产化的主力。光学镜片、激光光源、光学晶体、光场匀化器、掩膜版等中心部件均有国产厂商在加快研制进步在高端商场的掩盖度、推进光刻机国产化。
现在全球光刻机三大龙头ASML、Nikon、Canon占有绝大部分商场占有率。开源证券指出，ASML估计其2025财年总营收在300-350亿欧元，我国大陆地区营收占比回归常态，在20%左右，则对应60-70亿欧元。现在ASML仍占有我国大陆光刻机商场的绝大多数比例，因而能以为，国内未来3年每年对光刻机的增量需求约为60-70亿欧元。一起，考虑到国内还有很多存量光刻机，其替换或创新需求有望进一步扩容光刻机商场。
上游零部件商场方面，考虑到2023年全球光刻机龙头ASML的设备收入达219亿欧元，产品相关开销为106亿欧元。中航证券据此测算，光刻机的上游零部件本钱占比约48%。而我国海关多个方面数据显现，2023年国内半导体用光刻机进口金额约87.4亿美元。
因而，中航证券测算以为，若光刻机供应链完成全国产代替，对应上游零部件商场空间约300亿元，考虑现有存量光刻设备的备件替换，商场空间有望进一步增大。
光刻胶是光刻工艺中的要害资料，约占晶圆资料制作本钱的13%。光刻胶又称光致抗蚀剂，组分最重要的包括成膜树脂、感光组分、微量添加剂和溶剂。
光刻胶的首要成分是树脂、感光剂、溶剂和添加剂。依照配套运用的光刻机类型，半导体光刻胶可区分为g/I线胶、KrF胶、ArF胶、ArFi胶和EUV胶，全球商场占比别离约为16%、34%、10%、38%和2%。
全球半导体光刻胶商场根本被日本企业独占。TOP5公司中东京应化、陶氏化学、JSR和住友化学均为日本企业。现在国内8英寸和12英寸晶圆制作产线中运用的高端光刻胶仍有90%以上依靠进口。
依据Trend Bank，2023年我国半导体光刻胶商场受集成电路职业景气量下行影响，商场规模约34亿元，同比下滑13.98%。展望2024年，在人工智能技能带动及周期复苏趋势下，半导体光刻胶商场有望康复至38亿元，同比增加14.01%。在自主可控逻辑下，未来国内光刻胶商场增速有望坚持高于全球商场的增速。
上海电气、海立股份、晶方科技等多只光刻机（胶）概念股近一个月涨超30%！
为了给读者供给一些参阅，笔者依据上市公司资讯、公告、职业研报，整理出了A股中首要的光刻机、光刻胶概念股。其间，茂莱光学、上海电气、海立股份等3只个股在到11月11日的近一个月中，股价涨幅超100%。此外，还有张江高科、晶方科技等14只个股在近一个月中股价涨幅超30%。
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